5nm单次曝光

• 史上最先进！ASML研发新一代Hyper NA EUV光刻机：5nm单次曝光

  6月29日消息，全球最大半导体设备龙头ASML已着手研发下一代Hyper NA EUV先进光刻机，为未来十年的芯片产业做准备。Jos Benschop表示，ASML及独家光学合作伙伴蔡司（Carl

  快讯 2025 年 6 月 30 日